3.2 时间对成膜的影响
表3.2 时间对真空镀铝膜的影响
靶材 Al
基片 ABS材料
时间（S） 1 3 5 7 9
功率（KW） 7
真空压力(Pa) 9.0*10-3
靶距（mm） 10
膜厚（nm） 50 70 90 110 130
外观 亮银 亮银 亮银 亮银 亮银
附着力 良好 良好 良好 良好 良好
表3.2是在控制靶材、基片、功率、真空压力、靶距不变的条件，时间对成膜效果的影响。由实验结果可以看出，随着时间的延长，膜厚会明显得加厚。通常我们需要的是100nm左右的膜厚，因此最佳的镀膜时间为5s。
3.3 压力对成膜的影响 杜家台油层组储层特性及非均质性研究
表3.3是在控制靶材、基片、时间、功率、靶距不变的条件，真空压力对成膜效果的影响。由实验结果可以看出，真空压力的改变对成膜的影响并不是很大。习惯上会选择9.0*10-3 Pa的真空压力。
表3.3 真空压力对真空镀铝膜的影响
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