表3.4 靶距对真空镀铝膜的影响
靶材 Al
基片 ABS材料
时间（S） 5
功率（KW） 7
真空压力(Pa) 9.0*10-3
靶距（mm） 7 8 10 12 13
膜厚（nm） 50 70 90 70 50
外观 亮银 亮银 亮银 亮银 亮银
附着力 偏差 良好 良好 良好 偏差
3.5 靶材对成膜的影响
表3.5是在控制基片、时间、功率、真空压力、靶距不变的条件，靶材对成膜效果的影响。该数据是选取了最佳的镀铟参数与镀铝参数做比较，可以看出，两者的工艺条件差别是很大的。由表3.5也可以看出，不同的靶材，它的溅镀条件也是各不相同的，因此，想要选用一种新的靶材时，需要经过多次得反复试验来得到最佳的工艺参数。家电销售部门管理沟通问题案例分析及对策
表3.5 靶材对真空镀铝膜的影响
靶材 Al In
基片 ABS材料 ABS材料
时间（S） 5 1
功率（KW） 7 5
真空压力(Pa) 9.0*10-3 4.0*10-2
靶距（mm） 10 10
膜厚（nm） 90 70
外观 亮银 银灰
附着力 良好 良好
3.6 基片对成膜的影响
表3.6是在控制靶材、时间、功率、真空压力、靶距不变的条件，基片对成膜效果的影响。由实验结果可以看出，选用PC材料和ABS材料在相同的工艺参数下，镀出来的效果也一样。
表3.6 基片对真空镀铝膜的影响
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