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塑料真空镀的研究论文+常见问题及解决方法 第6页

更新时间:2016-8-27:  来源:毕业论文
靶距对成膜的影响
表3.4是在控制靶材、基片、时间、功率、真空压力不变的条件,靶距对成膜效果的影响。由表3.4可以看出,靶距对膜厚的影响会呈现一个凸字形的趋势,因为溅镀成膜中,有一个最佳成膜范围,靶距大于或小于这个范围,都会使成膜效率降低,如果想要达到一样的成膜厚度,则要加长时间,这样一来,成本会明显得加大。因此,当靶距太大或太小时,都会使得附着力不良,且膜厚较薄,无法顺利溅镀。最佳镀膜靶距为8-12。


表3.4  靶距对真空镀铝膜的影响
靶材 Al
基片 ABS材料
时间(S) 5
功率(KW) 7
真空压力(Pa) 9.0*10-3
靶距(mm) 7 8 10 12 13
膜厚(nm) 50 70 90 70 50
外观 亮银 亮银 亮银 亮银 亮银
附着力 偏差 良好 良好 良好 偏差

3.5 靶材对成膜的影响
表3.5是在控制基片、时间、功率、真空压力、靶距不变的条件,靶材对成膜效果的影响。该数据是选取了最佳的镀铟参数与镀铝参数做比较,可以看出,两者的工艺条件差别是很大的。由表3.5也可以看出,不同的靶材,它的溅镀条件也是各不相同的,因此,想要选用一种新的靶材时,需要经过多次得反复试验来得到最佳的工艺参数。家电销售部门管理沟通问题案例分析及对策

表3.5  靶材对真空镀铝膜的影响
靶材 Al In
基片 ABS材料 ABS材料
时间(S) 5 1
功率(KW) 7 5
真空压力(Pa) 9.0*10-3 4.0*10-2
靶距(mm) 10 10
膜厚(nm) 90 70
外观 亮银 银灰
附着力 良好 良好
3.6 基片对成膜的影响
表3.6是在控制靶材、时间、功率、真空压力、靶距不变的条件,基片对成膜效果的影响。由实验结果可以看出,选用PC材料和ABS材料在相同的工艺参数下,镀出来的效果也一样。
表3.6  基片对真空镀铝膜的影响

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