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卷绕式真空镀膜机总体及送丝结构设计 第3页

更新时间:2016-11-7:  来源:毕业论文
  离子镀是蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面, 称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。 未电离的中性原子(约占蒸发料的 95%)也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百~几千电子伏)和氩离子对基片的溅射清洗作用,使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发与溅射工艺的特点,并有很好的绕射性,可为形状复杂的工件镀膜。

        图1.2                            图1.3                         图1.4
 离子镀膜设备及应用产品    蒸发镀膜设备及应用产品      溅射镀膜机及应用产品
    1.3 选题意义
   真空镀膜机应用范围: 1、在硬质涂层中的应用:切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。 2、在防护涂层中的应用:飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。 3、在光学薄膜领域中的应用:增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。 4、在建筑玻璃方面的应用:阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。 5、在太阳能利用领域的应用:太阳能集热管、太阳能电池等。 6、在集成电路制造中的应用:薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。 7、在信息显示领域的应用:液晶屏、等离子屏等。
2设计方案的论证
2.1原始条件及数据
表7 技术参数
极限真空(空载、干燥、洁净): 7x10﹣³Pa
最大可镀幅宽: 1400-2500mm
最大卷径直径: 800-1000mm
最大卷绕直径; 840m/min
最大消耗功率: 135KW
     2.2 卷绕真空镀膜机工作原理
    真空卷绕镀膜设备的主要技术特征是: 其一, 被镀基材为柔性基材,即具有可卷绕性; 其二, 镀膜过程具有连续性, 即在一个工作周期内镀膜是连续进 行的; 其三, 镀膜过程始终在高真空环境中进行。由以上特征可知: 其基本结构必须有卷绕传动, 有卷材 ( 基材) 的放卷和收卷。在放卷和收卷的过程 中基材被镀上薄膜。 镀膜部分就是真空卷绕镀膜设 备的工作部。它位于基材的收放卷之间。工作部的工作原理可以是前述的电阻蒸发、 感应蒸发、 电子束 蒸发、磁控溅射或者其它真空镀膜方法中的任一种。要文持工作周期内镀膜过程的连续性, 就要求 镀材 ( 沉积材料) 足够多。 在蒸发卷绕镀中就要求有足够大的坩埚,或者有连续的送料机构; 在磁控溅射 中要求有足够大的靶材。要有一个真空的环境, 以上装置需置于一个密封的真空容器中, 并有一套真空机组,以文持工作周期内真空度的稳定性。 这样, 一台典型的真空卷绕镀膜设备就初具雏形了。本文来自辣/文(论+文?网,毕业论文 www.751com.cn 加7位QQ324~9114找原文

    2.2.1总体结构第一种方案
          图2.1真空室以及电气柜外观
这种方案可以在短时间内完成大量的镀膜工作,根据需要和可以安装14至16个步进电机,真空室空间开阔可以较容易的由工作人员完成设备的拆装和换修。
  图2.2 总体结构图

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