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真空电子束蒸发法制备聚合物PTFE薄膜和疏水性研究(4)

时间:2021-03-04 20:03来源:毕业论文
(3) 采用电子束蒸发法,以PTFE为靶材,石英为基体,研究不同粗糙度对所制备的PTFE薄膜的疏水性的影响。 2 薄膜的制备工艺 物理气相沉积法是指通过真空

(3) 采用电子束蒸发法,以PTFE为靶材,石英为基体,研究不同粗糙度对所制备的PTFE薄膜的疏水性的影响。

2  薄膜的制备工艺

物理气相沉积法是指通过真空蒸发或离子溅射、磁控溅射等方法将靶材上的原子或分子蒸发或溅射出来,然后沉积到基体上形成薄膜材料的方法。PVD法是制备硬膜材料常用的方法,与CVD法相比,PVD法的沉积温度较低,不易引起基底的变形开裂以及膜层性能的下降。制备PTFE薄膜常用的PVD方法有电子束蒸发、活化反应蒸发、射频溅射、离子束溅射、离子团束技术、直流(或交流)反应磁控溅射等

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