2.2.3  薄膜制备流程 7

   2.3  小结 10

3  Al/NiO复合薄膜材料的表征 11

   3.1  X射线衍射（XRD）分析 11

   3.2  扫描电子显微镜（SEM）分析 12

   3.3  Al/NiO复合薄膜的热分析 13

   3.4 小结 14

4  Al/NiO含能半导体桥的制备与电爆特性表征 16

   4.1  Al/NiO含能半导体桥的制备 16

   4.2  伏安特性曲线测试 17

   4.3 电爆现象观测 22

   4.4电爆温度测定 23

     4.4.1  原子发射双谱线测温原理 24

     4.4.2  温度测试结果 26

   4.5小结 27

结  论 39

致  谢 30

参考文献 31

1  引言

1.1  薄膜材料的制备技术

薄膜科学与技术因其十分丰富的物理内涵和巨大的应用价值，成为近年来迅速发展的学科。特别是出现了许多新的薄膜，为新材料和新器件开辟了广阔的途径。薄膜材料在应用上有自己独特的优势[ ]：它容易形成细晶、非晶状态，或以亚稳态相存在，具有特殊的表面能态；每种材料的性能都有其局限性，而薄膜材料可以将各种不同的材料进行复合，发挥材料各自的优势，制备出一些具有优异特性的复合材料；随着薄膜材料变得更为丰富，其市场前景和应用领域也日趋扩大。源[自[751``论`文]网·www.751com.cn/

到目前为止，薄膜制备技术在短短的几十年间已发明上百种之多，通常可以分为物理气相沉积法和化学方法两大类。物理气相沉积法主要包括热蒸发沉积、溅射沉积和离子镀三大类；化学方法主要包括化学气相沉积和电镀两大类。每一类中又包含了若干种制备方法。传统的物理气相沉积法几乎适用于所有单元素或简单的化合物薄膜材料，而化学气相沉积法更适合于半导体薄膜材料的制备[ ]。

1.2  复合含能薄膜的研究状况

1.2.1  复合含能薄膜的研究背景

1.2.2  国内外含能薄膜的研究状况

1.3 本文主要研究内容

   从近年的研究现状来看，化学反应薄膜的研究相对于合金化反应膜要滞后。本文主要研究Al/NiO复合薄膜的制备和性能表征，并探索Al/NiO复合薄膜应用于点火桥的可能性。

本文具体包括以下几个方面的内容：

（1）Al/NiO复合薄膜的制备；

（2）Al/NiO复合薄膜的结构与性能表征：采用X射线衍射分析（XRD）对薄膜结构组分进行表征，采用扫描电子显微镜（SEM）对所制备薄膜表面形貌、断面情况进行检测分析；

 (3) Al/NiO复合薄膜的热分析研究：采用差式扫描量热法(DSC)对所制备的薄膜材料进行热分析；

（4）Al/NiO复合薄膜电爆性能研究：对一组镀上复合薄膜的半导体桥在不同电压下进行伏安特性测试；采用原子双光谱法测量不同电压下复合薄膜电爆炸的电子激发温度；通过高速摄影仪观测Al/NiO点火桥的电爆炸过程。论文网 Al/NiO含能复合薄膜材料研究(2):http://www.751com.cn/huaxue/lunwen_71467.html