2.1 脉冲激光沉积
脉冲激光沉积（PLD）原理[14]：如图2.1所示，功率大的脉冲激光器产生激光束，经过一个会聚透镜，会聚的激光束会射在靶体材料的表面，此时的真空泵已经将系统内抽为真空。受到激光束照射的材料表面温度会逐渐升高，产生溶蚀，然后等离子体( )会逐步产生，于是定向局域膨胀发射，最后会在作为衬底的基片上面沉积，最终形成薄膜。一般，认为它可以分为3个过程。
钴掺杂的非晶碳膜的光电导性能研究(3):http://www.751com.cn/wuli/lunwen_58414.html
2.1 脉冲激光沉积
脉冲激光沉积（PLD）原理[14]：如图2.1所示，功率大的脉冲激光器产生激光束，经过一个会聚透镜，会聚的激光束会射在靶体材料的表面，此时的真空泵已经将系统内抽为真空。受到激光束照射的材料表面温度会逐渐升高，产生溶蚀，然后等离子体( )会逐步产生，于是定向局域膨胀发射，最后会在作为衬底的基片上面沉积，最终形成薄膜。一般，认为它可以分为3个过程。
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