ReaxFF 势,全称 reactive force field,即反应力场,由 Adri van Duin 和 William A. Goddard,
III 于 2001 年提出[22]。ReaxFF 势包含以下 9 项:
Esystem Ebond Eover Eunder Eval Epen Etors Econj EvdWaals ECoulomb
(2.2)
其中 Ebond 为键能, Eover 为过饱和键能, Eunder 为不饱和键能, Eval 为键角能, Epen 为共价 键修正能, Etors 为二面角能, Econj 为共轭能, EvdWaals 为范德华相互作用力能, ECoulomb 为静电
相互作用能。ReaxFF 是一种依靠键级的力场,它考虑了键距与键级之间、键级与键能之间的 关系以及一些化学价理论,能够很好的描述化学键的断裂与生成。另外,ReaxFF 还包含了范 德华相互作用以及静电相互作用来描述非键相互作用。来!自~751论-文|网www.751com.cn
由于 ReaxFF 势精确考虑了分子的复杂性(涉及到键长、键角、二面角等等),因此一 般情况下使用 ReaxFF 势计算比 AIREBO 势准确。本文第一部分研究高能脉冲下的缺陷转化 时采用了两种势函数分别进行了计算,在第二部分概率统计主要是在 ReaxFF 势下进行,第 三部分加载应力模拟使用 AIREBO 势。文献综述
2.3.3 边界条件
Lammps 中可设置的边界条件有四种:p,f,s,m。
p 即为周期边界条件。除了 p 之外另外三种均为非周期边界调节。其中 f 为 fixed,即固 定边界,如果一个原子跨过了边界,则这个原子视为“丢失”。s 为 shrink-wrapped,即无论 原子运动到哪,边界都要调整到包裹所有原子,就像一层塑料膜包裹一样。m 为 shrink-wrapped with a minimum value,在 s 边界条件的基础上有一个最小值,比如 z 方向的上边界被定为 50 或以上,则即使所有的原子都在 50 以内,z 方向上边界始终大于或等于 50。
本文第一、第二部分工作边界条件设置为 m,第三部分工作设置为周期性边界 p。
分子动力学模拟石墨烯材料缺陷演化机理(5):http://www.751com.cn/wuli/lunwen_77299.html