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N1-CNT氮掺杂碳纳米管的制备及其电催化性能研究(3)

时间:2019-12-07 15:16来源:毕业论文
(3)化学气相沉积法(Chemical vapor deposition,简称CVD)[22-26]:是一种在中高温下反应物蒸发为气态,并发生化学反应生成固态物质沉积进而获得所需的固体


(3)化学气相沉积法(Chemical vapor deposition,简称CVD)[22-26]:是一种在中高温下反应物蒸发为气态,并发生化学反应生成固态物质沉积进而获得所需的固体材料的工艺技术。CVD法的优点是操作简单,工艺参数易于控制,适合用于大规模生产,是目前最为广泛应用的方法,也是研究学者比较着重研究关注的方法。但 CVD 法制备的 CNT 因为有管状结构不整齐、存在结晶缺陷、石墨化程度较差等缺点,不适用于实验室的精细研究[27-29]。因此,各方学者在此基础上提出了各种改进的CVD法,如注射CVD[30]、液体CVD[31]、爆炸辅助CVD[32]等。 除此之外,还有催化热解法、溶剂热合成法等。 原位法虽然种类繁多、应用广泛,但使用这种方法制备的 CNT通常内含催化剂杂质且不易除去,同时由于热解,含氮前驱体中的 N元素会有大量损失导致最终得到的产物氮含量不高,无法显现出较高的电催化活性。

N1-CNT氮掺杂碳纳米管的制备及其电催化性能研究(3):http://www.751com.cn/huaxue/lunwen_42878.html
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