（3）膜层没有液滴颗粒问题；
（4）几乎所有金属、合金和陶瓷材料都可以制成靶材；
（5）通过直流或射频磁控溅射，可以生成纯金属或配比精确恒定的合金镀膜，以及气体参与的金属反应膜，满足各类薄膜等多样性和高精度的要求。
2.1.1真空镀膜设备
真空磁控溅射法镀膜使用的设备为沈阳科友真空技术研究所研
激光烧蚀薄膜材料等离子体的电子温度与电子密度测量(3):http://www.751com.cn/huaxue/lunwen_71461.html
（3）膜层没有液滴颗粒问题；
（4）几乎所有金属、合金和陶瓷材料都可以制成靶材；
（5）通过直流或射频磁控溅射，可以生成纯金属或配比精确恒定的合金镀膜，以及气体参与的金属反应膜，满足各类薄膜等多样性和高精度的要求。
2.1.1真空镀膜设备
真空磁控溅射法镀膜使用的设备为沈阳科友真空技术研究所研
激光烧蚀薄膜材料等离子体的电子温度与电子密度测量(3):http://www.751com.cn/huaxue/lunwen_71461.html以碳纤维管为阴极，二氧化铅电极为阳极制成一种新型的微型电...
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