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基于Al/Ni纳米复合薄膜热源装配微型热电池技术研究(3)

时间:2021-06-18 22:23来源:毕业论文
图2 磁控溅射原理图 2.3 镀膜工艺 Al/Ni复合薄膜的制备主要包括基片的超声清洗、离子束清洗以及溅射镀膜几个步骤。Si基片在加工、运输、存放的过程中,

图2  磁控溅射原理图

2.3  镀膜工艺

Al/Ni复合薄膜的制备主要包括基片的超声清洗、离子束清洗以及溅射镀膜几个步骤。Si基片在加工、运输、存放的过程中,表面会存在一定的污染,如灰尘、油脂等,硅片的清洁程度影响着所制备薄膜的附着力、纯度和平整度等。因此,在溅射沉积薄膜前先对Si基片进行清洗。清洗先用洗涤剂清洗、然后依次用H2SO4和H2O2(体积比4:1)的混合物、丙酮、去离子水超声清洗,最后烘干。镀膜前需对Si基片进行离子束清洗,以消除基片表面的氧化物污染物层利于后面的镀膜。

磁控溅射条件对于成膜速率和成膜质量都有较大的影响,主要参数包括本底真空度、溅射功率、工作压强和氩气流量等,镀膜参数如表1所示。实验中,一个调制周期,Al/Ni复合薄膜Al和Ni调制周期分别为25nm和25nm,薄膜的总厚度约为50nm。镀膜的规格有两种

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