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（8）光学测厚
光电法是光学法中应用较好的一种，它以光电器件为传感元件进行光电转变，通过对电信号的处理来实现厚度测量。采用该方法还可检测出长、宽、直径、表面粗糙度、角度等其他多种几何量。测量对象也较广，并不局限于金属或非金属，而且测量精度高、性能稳定，可实现非接触测量等，因而在几何量测量领域使用较多。该方法的缺点是仪器对环境、振动、温湿度等较为敏感。激光作为一种新型光源，与其他光源相比具有单色性好、方向性强、光亮度高的优点，目前光学法测厚常用的光源一般采用激光[15]。赵世强 对CCD(cha唱e coupled Devices，电荷耦合器)光电式测厚仪进行系统研究指出，采用ccD为光电转换元件实现对厚度的非接触测量是可行的。
目前，各种检测的涂镀层厚度方法已在工业生产方面得到了实际应用，产生了巨大的经济效益。但是，对涂镀层厚度各种检测方法及仪器的研究还需在以下几个方面继续努力：
1)提高各种涂镀层厚度检测仪器的精度。随着现代工业的飞速发展，机械设备的各种配合精度要求越来越高，这就对采用表面覆层技术修复或强化的配合面的尺寸精度越来越高，因而也就需要更加精确的检测手段对其厚度进行控制；
2)加速便携式涂镀层测厚仪器的研究开发，实现一机两用(磁涡兼容)、一机多头(探头)、一机多型，促进涂镀层测厚仪器在施工现场的应用，有利于现场控制涂镀层厚度，提高生产效率和施工质量；
3)开展涂镀层厚度在线测量的研究，有利于提高涂镀层制备的效率，降低涂镀层材料的浪费。
1.3涂层薄膜的制备
真空镀膜技术室一种发展迅速，应用广泛的表面成膜技术，它不仅可以用来制备各种特殊性能的薄膜涂层（如超硬、高耐蚀、耐热和抗氧化等），而且还可用来制备各种功能薄膜材料和装饰薄膜涂层等。真空蒸发镀膜是真空镀膜技术中的一种，是把待镀膜的基体或工件至于高真空室内，通过加热使蒸发材料汽化（或升华），以原子、分子或原子团离开熔体表面，凝聚在具有一定温度的基片或工件表面，并冷凝成薄膜的过程。电子束蒸发镀膜技术室其中一种比较成熟的工艺，它主要由一下优点：（1）电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以使高熔点材料蒸发，并且能有较高的蒸发速率；（2）由于被蒸发材料是置于冷水坩埚中，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料和蒸发材料之间的反应，这就使得镀膜的纯度得以提高；（3）热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率高，热传导和热辐射的损失少。电子束蒸发镀膜技术将逐渐发展成为一种主流的真空镀膜技术[16]。
镀铝膜是采用特殊工艺在基体表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种材料，其中最常用的加工方法当数真空蒸镀铝法[11]。镀铝膜的应用非常普遍，它已被广泛地应用于食品、医药、化工等产品的包装。镀铝膜具有极佳的金属光泽和良好的反射性，具有优良的阻气性、阻湿性、遮光性和保香性，而且还可以在一定程度上替代铝箔，不但节省了能源和材料，还降低了商品包装成本。随着铝膜的广泛应用，其弊端也已经显现出来，那就是膜层和基体的结合力较差，铝膜容易脱落，耐碱耐酸性较差。目前主要是通过在镀铝面上涂布一层底涂胶，来提高铝膜和基体的粘结力，增强铝膜的牢固度，使其不容易脱落。但是在使用胶黏剂的过程中，也存在很多问题，如涂胶过多，就会增加成本，而且还会使固化时间延长，容易发生镀铝曾的迁移现象；如涂胶过少，就会影响铝层的牢固度。