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换言之，再发射是一个使表面平滑的效应，而阴影效应则是试着使表面变得更加粗糙。阴影效应和再发射效应被证明对表面的散射和噪声有着至关重要的影响，可以当作是动力学表面生长的主要驱动效应。目前所流行的阴影效应和再发射效应依赖于他们的非定位效应：由于阴影效应和可以运动很长一段距离的再发射粒子的存在，一个给定表面点的薄膜生长，依赖于周围或远处点的高度。
3.2 雕塑薄膜的制备方法
使用物理气相沉积时，首先将基片倾斜，使基片表面法线方向与气流入射方向成一定角度θ，称为沉积角。然后将基片按照一定方式旋转(如图3-2所示)，这种方法称为倾斜角入射沉积(glancing angle deposition，简称 GLAD)[29]。