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（4）将控制面板的左上角温度数据显示界面右边的盖子打开，调节设定温度，使设定温度低于镀膜室内温度，触发一下，开始镀膜。镀膜时，先充氩气Ar，刻蚀10分5秒，气压大约为2.3到2.6×10-5托，然后开始充氧气O2，气压大约1.8×10-4托，开始镀制。镀制结束，冷却镀膜机，取出样品。
（5）用同样的方法镀制不同材料不同厚度的样品。注意镀制的二氧化锆ZrO2时候要先将材料熔融，之后才开始镀制，注意一个坩埚镀的厚度有个限制，防止将锅底击穿。
图3.1 晶控仪 图3.2 电脑光控面板
图3.3 真空探测器 图3.4 镀膜室和控制面板
3.1.3 镀制工艺参数表
表3.2 镀制工艺参数表
镀膜名称 普通薄膜 镀膜锅数 Ⅰ 时间 12.05.08
层数 1 膜料 SiO2 基底材料 K9
基底尺寸 Φ30 基片数 2 进程序号/起始真空度 1/2.0×10-5
用时 3h 刻蚀时间 10:05 刻蚀真空度 2.6×10-4
刻蚀Anode V/C 100/6.6 Cathode Current 30 Neut.Current 0
Emission Current 5.8 温度上/下 237/250 Ar流量 18sccm
第一层
膜料 SiO2 设定厚度 1000A 温度上/下 245/250
速率 10A/S 中止厚度 1010A 充的气体/流量 O2/17sccm
真空度 1.8E-4 APC－pressure 7401 APC－flow 326
电子枪序号 Ⅱ EGUN-V/I 7.10/90 EGUN-POWER 18.9%
离子源Anode V/C 100/0.5 Cathode Current 30 Neut.Current 0
Emission Current 6.5 退火温度 250 退火时间 20:25
3.1.4 镀制的薄膜样品
ZrO2镀的一片有台阶、厚的薄膜样品损坏
图3.5有台阶的镀膜样品 图3.6 无台阶的镀膜样品
3.2 不同厚度的薄膜样品的测量实验
3.2.1 光度法
1) 光度法基本原理
光度法是根据薄膜的透射率曲线或是反射率曲线来计算薄膜厚度的一种方法，通过光学光度计来测量的。
光度计中的光源发出的光被分为两束，分别通过参比池和样品池，再经过载波器后背光电倍增管接受而转化成电信号，经模拟或数字转换进入计算机内由专用程序运算而得到样品的透射率、反射率及吸收率等光学特性参数[9]。现如今常用的分光光度计一般都通过精确测量透射率最终得到薄膜厚度的。