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物理气相沉积PVD涂层文献综述和参考文献(2)

时间:2020-03-24 09:28来源:毕业论文
(7) 离子蒸发及溅射源 磁控溅射镀膜一般采取长方形或圆柱形靶材。 参考资料 [1] [德]穆斯等 著;孔建益 译 机械设计(原书第16版). [2] 张而耕,吴雁.现代

(7) 离子蒸发及溅射源

磁控溅射镀膜一般采取长方形或圆柱形靶材。

参考资料

[1] [德]穆斯等 著;孔建益 译 机械设计(原书·第16版).

[2] 张而耕,吴雁.现代PVD表面工程技术及应用。科学出版社,2013.

[3] 何璧生.旋片式真空泵.真空,第二期,2002.4

[4] 徐颖主编.机械设计手册.北京:机械工业出版社,1995

[5] 冯辛安.机械制造装备设计(第二版).北京:机械工业出版社,2006年3月.

[6] 刘玉波.旋片式真空泵的研究.[硕士学位论文].兰州理工大学.2010

[7] 张以忱.真空镀膜设备.北京:冶金工业出版社 ,2009.08  

[8] 何璧生.旋片式真空泵的结构原理和设计计算上.通用机械.第五期.2003

[9] 何璧生,旋片式真空泵的结构原理和设计计算(下),通用机械,2003年第6期,

[10] 何璧生,旋片真空泵的漏油成因与防治,真空,1994年第4期,30一32

[11] Pallares J,Grau F X,Davidson L.,Pressure drop and heat transfer rates in forced convection rotating square duct flows at high rotating rates, Physies of fluids,2005

[12] A.B.Tranmsehek,M.h.mkumbwa.MathematiealModelingofRadialand Non一radialRotarySlidingVaneColllPressorProeeedingofICEC,1996

[13] HsuY,BrennenCE,Fluid flow equations for rotor dynamic flows in seals and leakage paths,Transaetions of the ASME,2002.124,176-179

[14] Center for Composite materials,Harbin Institute of Technology,Harbin 150080,China

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