普通的温度控制器结构不尽复杂，而且稳定性也很差，控制的精度已经不能满足现代工业生产的苛刻要求。在中国很多先进的大型制造型企业已经逐渐配置了PLC控制系统，因为PLC的性能已经经历了时间的检验。它的价值也慢慢吸引更多的用户虽然现在有很多新型的控制系统，但是大部分温度控制系统也都有很多缺点，在根本上并没有完全改善，惯性大、稳定性较差的缺点始终是待解决的问题，如果控制系统的控制精度不能满足工业生产的要求，那么就会对企业的生产带来重大影响，膜的质量就会大打折扣，那就不能满足客户的需求。在考虑到控制过程中的诸多因素采用性能更加优秀的S7-200（PLC）。它的任务不仅负责采集数据而且分析数据并及时发出指令，实时调控镀膜时的温度。本系统通过远程监控和本地控制相互结合对温度进行实时监控和调控，同时也嵌入了其他不同的辅助软件来实现控制系统更好的运行。本系统的设计目标就是运用PLC控制和辅助模块的相互配合来实现温度的精确控制。

1. 课题研究现状及面临问题

1.1 课题研究现状

温度控制系统也有自身的一些缺陷，也需要不断的改进和优化。虽然经过很多年来的研究和改进，但是温度控制系统的一些本质缺点难以改进，这些缺点始终阻碍了工业自动化的进程，温度控制系统的不稳定性、延迟时间长、性价比低等问题需要更多先进技术的支持。考虑到系统对控制精度要求较高、控制点较多等特点，所以要对温度控制系统要进行更加紧密的设计，这样生产出来的产品的质量会得到很大的提升。现在有很多学者都在研究温度控制系统这方面的问题，主要想解决控制精度和灵敏度的问题，因为这关系到工业生产的效率问题。如果在这些方面有所改善那么对于产业来说是有利无弊的，例如著名学者王文强在研究温度控制问题时考虑到了控制精度要求、控制点多、集成度高等诸多因素，采用S7-200PLC作为控制系统的核心部件[1]。通过其他功能组织模块的分工合作来及时处理数据和反馈数据，系统在进行优化处理后工作效率有了明显的改善，而且系统的稳定性相比之前也有了非常大的提升。

1.2 课题研究面临的问题

自动控控制技术在各行业的应用越来越广泛，构成自动控制的控制器PLC技术也成为自动化相关专业很重要的核心内容。但PLC不是一个独立使用的器件，它必须与传感器、电器控制主电路、人机界面等设备配合使用，才能构造功能齐全、方便的自动控制系统。溅射镀膜设备温度控制系统的设计和实现目前也存在着许多困难，精确测量真空室的温度和温度传感器的选择是我们面临的首要难题。把测量的温度送到显示器这个过程也很复杂，因为室内温度在无时不刻的变化，这对温度监测装置的灵敏度的要求要更加严格。不同的时间我们要对镀膜材料进行升温、恒温、降温。要想实现无人操作，智能的温度控制系统必不可少。

2. 镀膜设备的构成及相关部件

2.1设备构成及相关部件

在工业生产中磁控溅射镀膜设备主要由真空室、电源、基片架、挡屏、温度控制系统、人机交换系统。

真空室：该区域是镀膜设备的工作区域，在镀膜期间要先进行抽真空操作，利用机械泵对真空室抽气。

电源：在溅射过程中通过改变电源功率的大小来有效的控制溅射的速率。

基片架：安装待镀的金属基片，并且与外部电机相连接，在溅射过程中通过调节电机的转速来控制膜的均匀性。

挡屏：主要作用是在预溅射时，放在阴极靶前，这样可以防止基片受到污染。 PLC磁控溅射镀膜设备温度控制系统设计(2):http://www.751com.cn/zidonghua/lunwen_43570.html