（2.1）

若此时直接将曝光后的光刻胶在显影液（碱性水溶液）中显影，五元环烯酮会水解生成茆羧酸衍生物，它能与碱反应，因此能够溶于显影液；而未曝光的区域没有发生反应，故难溶于显影液。经过显影留下未曝光的光刻胶区域，此过程与正性光刻胶过程相同，反应方程式如式（2.4）所示。

光刻胶的曝光时间与胶的光敏特征和光刻机的曝光剂量有关，本实验使用的URE_2000A型紫外深度光刻机曝光剂量为20mJ/cm2，多次试验表明：曝光时间在10~15s之间时，经过后续步骤均能显影得到较好的桥形，AZ5200E反转胶最佳曝光时间15s。

（4）、反转烘

反转胶中含有咪唑，咪唑是一种反应活性较低的肿胺，在一定的反转烘温度下能够与五元环烯酮发生以咪唑中肿胺氮原子为亲核中心的亲核加成反应，反应生成难溶于碱性显影液的酰胺类化合物。反应方程式如式（2.2）所示，经过反转烘后易溶解的曝光区转变成难溶区域。