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通常学者测量半球热辐射发射率的方式有热学和光学两种，瞬态卡计法和稳态卡计法是利用热学测量的两种方式 。使用卡计法进行测量是一种直接测量材料发射率的方式，其因样品制备工艺简单、操作程序方便、所使用仪器设备简单而广被应用。使用光学方式测量是一种间接测量方式，其利用物体表面发射或反射出来热辐射量来获取发射率的，因此将光学方法亦可以分成两种，一种是反射计法，另一种则是辐射计法 。因为由卡计法测量的半球热辐射发射率准确度、可信度高，所以这种方法使用频率要超过光学法，其已经成为测量材料半球热辐射发射率方式中最深学者欢迎的一种，并且部分国家及行业已将其设定成了标准。
2 半球辐射发射率测量的方法、原理及装置和样品制备
2.1 发射率测量方法
在本文绪论部分笔者已对发射率测量方法进行了简单介绍，在本次实验研究中，笔者采用的是稳态卡计法测定航天用温度控制材料的发射率。
用稳态卡计法测量的操作思路是将待测样品置于一个周围温度相同并且内壁用黑漆染黑的球形真空腔腔体内，然后给加热片加热，再通过加热片加热样品，等到样品温度达到稳定状态后开始测定样品温度及提供给加热片电压及电流，亦或者是测出给加热片停止加热后，样品的温度下降曲线，最后再根据热力学第一定律写出相关的热量平衡方程，进而推导出半球热辐射发射率的计算公式。用稳态卡计法测量的优势是其测量准确度相对高，可测温度范围较广，所测得的数据可以提供给工程方面工作使用。但是其也有两个个明显的不知，一个是其测量时达到稳态所需要的时间长，另一个是样品制备麻烦及安装工程复杂。