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摘要： 本文简要介绍了气体及其辉光放电的原理和研究背景，以及等离子体技术尤其是在射频激发条件下放电的机理特性和实际应用。阐述了鞘层的基本理论，气体放电的基本模型和氩气在电容耦合放电条件下的电化学特性建立流体模型，列出了一般近似性的漂移扩散方程。再通过一维仿真模拟，用控制变量法改变各项参数值，进而绘出各参数随其他变量的变化图像，分析图像的曲线特点和变化趋势，得出各参数随横向位移，相位，外加电压和外加气压的变化关系，从而得到极板间的等离子体区域以及鞘层区域受外界条件影响下各参数变化特性。61102
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毕业论文关键词：等离子体，鞘层，电容耦合放电
Title Research of characteristic parameters for argon capacity coupled discharge
Abstract This article introduces the principle and background of gas and glow discharge. While mentions the mechanism of discharge characteristics and practical applications research of plasma technology, especially under the conditions of the RF excitation. Then describes the basic theory of the sheath, the basic model of the gas discharge of the capacitor coupled argon discharge conditions of the electrochemical properties of the fluid model is created, listing the general drift diffusion equation approximation. Then through a one-dimensional simulation, the control variable method to change the parameter value, and then draw the parameters with other variables change image, analyze the image of the curve characteristics and trends of the parameters obtained with the lateral displacement, phase, applied voltage and the relationship between the applied pressure changes, resulting in the plasma region between the plates sheath region affected by external conditions change characteristics under the influence of each parameter.
目录
1.引言.1
1.1等离子体物理的发展历史概况.1
1.2气体放电与辉光放电2
1.3射频激发下的等离子体研究背景3
2．理论以及模型6
2.1鞘层理论及特性6
2.2气体放电模型和及其建模6
2.3电容耦合放电求解过程7
3．模拟过程10
3.1各参数随坐标和相位的变化关系.10
3.2各个参数随电压的变化关系.15
3.3各参数随气压的变化关系.18
结论22
致谢.24
参考文献25
1.引 言 1.1 等离子体物理的发展历史概况
1.1.1国外概况 1898 年, William Crookes 首次引入了“电离”这个术语,用以描述中性原子被击碎而形成电子和正离子。在 20世纪 20年代,Irving Langmuir 引入了“鞘层”和“等离子体”这两个术语,它们也一直被沿用至今。 19 世纪,电弧和直流放电等离子体在科学实验室里得到了广泛的研究。在此期间,惟一获得广泛应用的等离子体技术是用电弧照明,它曾成为“气灯”的有力竞争对手,但到 1900 年它又被白炽灯击败,主要是它需要传输大电流直流电。20世纪20年代,作为现代等离子体物理中的一项主要理论性发展,磁电离理论促进了等离子体研究。 20世纪30年代初,开始了磁流体动力(MHD)发电的商用研究,在美国能源部的资助下,这项研究继续到现今源]自=751-·论~文"网·www.751com.cn/ 。 等离子体物理发展的主要动力是关于受控核聚变的研究,1950 年左右开始于一些主要的工业化国家,一直发展到今天。当今大学和国家实验室在等离子体物理方面的多数研究活动,原来都是试图产生和用磁约束聚变高温等离子体。自1970 年以来,特别是最近,等离子体已被广泛地用于微电子工业,进行制造微电子电路所必需的沉积、刻蚀等加工。其他工业等离子体加工的应用近来也发展甚快。