(4)军事领域
激光武器是利用激光高能量密度以及激光单色性制成的定向能武器。与普通武器相比,激光武器产生的高度集中的激光具有强大能量,可以确保一次性击毁目标,并且激光可以实现光速飞行,可以迅速精准命中目标,而且激光产生成本低,与传统武器相比有很高的性价比。同时激光武器还具有具有攻击速度快、可精确度高、不受电磁干扰等优点,但很容易受天气等环境影响,激光武器真正投入使用还比较困难,还需要进一步研究。
1.3硫系玻璃
1.3.1硫系玻璃概述
硫系玻璃主要是指以元素周期表中硫族元素(S、Se、Te)为主掺杂其他金属或非金属材料烧制而成的玻璃[2]。从上个世纪五十年代开始,随着硫系玻璃优异的光学性能、电学性能以及半导体性能被发现,科研人员对硫系玻璃的研究从未停歇。与普通氧化物玻璃相比,硫系玻璃的键强要弱得多,主要是由两硫族元素之间的共价键形成的链状结构构成的,因此一般硫系玻璃中有较多的S或Se[3]。文献综述
1.3.2硫系玻璃的性能
与传统玻璃相比,硫系玻璃有较高的折射率(2.0~3.0),不同组分的硫系玻璃之间折射率也存在差异,比如Ge-Ga-S玻璃的折射率在2.1左右,而Ge-Sb-Se玻璃折射率可以达到2.9[5]。较低的声子能量(~350cm-1),使得其在中红外发光过程中可以降低多声子无辐射跃迁,增强发光。另外,硫系玻璃在具有较宽的红外透过范围,并且在红外区域有较高的透过率,特别是在8~12μm,因此硫系玻璃被广泛应用到红外成像领域。
1.3.3硫系玻璃制备工艺
硫系玻璃的制备方法比较单一,目前主流制备方法还是采用传统的溶体急冷法。受化学气相沉积法制备通信光纤的启发,有人通过此方法制备硫系玻璃。
(一)溶体急冷法
与传统的氧化物玻璃不同,硫系玻璃原材料中含量较高的硫容易与氢、氧发生发应,且硫系玻璃溶体具有较大的蒸气压,因此需要将原料放入内部真空的密封玻璃管中加热熔制。由于硫系玻璃烧制温度在800~1000℃,为此一般选用石英玻璃作为容器。在制备过程中,为了使原料充分混合,需要不停摇摆;为了防止升温过快导致蒸气压剧增引起爆炸,通过缓慢升温将摇摆炉温度升至制备温度。处于粘流态的玻璃,通过冷水或风吹进行急冷,由于降至玻璃转变温度Tg(玻璃在玻璃态和高弹态之间相互转变的温度)时,玻璃材料性能急剧变化,因此玻璃需要放入保温炉中进行保温以消除玻璃内部应力。
(二)气相沉积法
化学气相沉积(CVD)被广泛应用到半导体材料制备工艺中,给绝缘材料以及金属合金材料的制备提供了许多便利。化学气相沉积法原理很简单,将两种或多种的气态原材料导入到一个反应室内,然后让原料发生化学反应,生成新材料,使其沉积到晶片表面,目前主要使用的气相沉积法包括蒸发法、化学气相反应法、溅射源法和流动油面上真空沉积法[6]。基于气相沉积法快速的急冷效果,可以制备一些难以非晶化的硫系玻璃,但此方法只适合制备薄膜,不方便制备块状样品,且由于不均匀蒸发问题,易导致样品成分改变,因此在实际制备时具有很大困难。
1.4 Cr2+:ZnSe
1.4.1 Cr2+:ZnSe概述
过渡族金属离子掺杂的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料是产生 2~5μm激光输出的重要中红外材料,其中Cr2+:ZnSe晶体材料是这类材料中综合性能较好的材料之一。从上世纪90年代开始,Deloach和Page等就对掺杂二价铬离子(Cr2+)硫化物光谱的细致研究。1997年R.H.Page等发明第一台掺Cr2+:ZnSe激光器,其较强的增益带宽时Cr2+:ZnSe在激光领域得到广泛关注。目前,IPG公司生产的Cr2+:ZnSe的晶体激光材料的可调谐范围在 1.9μm~3.3μm,功率可达到12W,转换效率可达到70%。但由于高质量大尺寸Cr2+:ZnSe晶体的制备生长周期长、技术复杂、成本高等原因,其应用应用受到不少限制。来!自~751论-文|网www.751com.cn