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微弧氧化技术不仅可以处理Ti、Mg、Al及其合金，在Nb、Zr、Ta等金属及其合金表面也能够生长陶瓷层；而且微弧氧化技术适用于多种工艺，处理能力很强。[22]
通过改变陶瓷层的工艺条件[24]，可在一定程度上调整陶瓷层的微观结构、特征，从而实现对陶瓷层性能的控制；一般将碱性溶液作为处理液，可不添加重金属盐，处理过程中不产生有毒有害的气体，是一种绿色环保的表面处理技术。
在等离子体电解氧化时，需要更高的电势。例如，在铝的等离子体电解氧化，所用的电压至少在200V以上。电压会局部超过生长氧化膜的介电击穿电势，并且放电发生。氧化物生长的条件，由于这些放电而导致的局部等离子体反应，具有较高的温度和压力而发生改变。当中的工艺包括熔化，熔体流动，再固化，烧结和生长氧化物的致密化。其中最显著的作用是该氧化物一部分由未定形的氧化铝转化成结晶的形式，如刚玉（α-Al2O3），结果使氧化物的耐磨性和韧性等机械性能得到加强。
哈尔滨工业大学的徐吉林[19]，选用的电源为双向脉冲微弧氧化电源，在NaAlO2和 NaAlO2-NaH2PO2电解液体系中制备了以γ-Al2O3为主晶相的陶瓷膜层，随着电解液浓度的增加、处理电压的提高以及处理时间的延长，其衍射峰强度逐渐增强。电解液浓度及电参数对膜层表面Ni的含量有一定的影响，范围在0.7～7at.%内，较基体显著降低。
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