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    表3-2 不同合金镀层中晶态Ni的X光衍射峰所对应的2θ角
    镀层    MoNi4 (111)    MoNi4 (200)    MoNi4 (220)
    Ni-Mo-MoSi2
    Ni-Mo-Dy-MoSi2
    Ni-Mo-Gd-MoSi2    43.49774°   
    43.49774°   
    43.51445°       50.44963°   
    50.44963°   
    50.44963°       74.59741°   
    74.5807°   
    74.61412°   
    3.3.3 复合镀层耐磨损分析
    表3.3 不同复合镀层的磨损量及摩擦系数
    镀层    磨损量(mg)    摩擦系数
    Ni-Mo-MoSi2镀层
    Ni-Mo-Dy-MoSi2镀层
    Ni-Mo-Gd-MoSi2镀层    1.15
    0.88
    0.87    0.714
    0.700
    0.601
    表3.3是不同复合镀层的磨损量及摩擦系数。与Ni-Mo-MoSi2复合镀层的磨损量相比,Ni-Mo-Dy-MoSi2和Ni-Mo-Gd-MoSi2复合镀层磨损量分别降低了23.5%和24.3%。说明添加Dy(Gd)之后,Ni-Mo-Dy(Gd)-MoSi2复合镀层的耐磨性能有有所提高。与Ni-Mo-MoSi2镀层相比,Ni-Mo-Dy-MoSi2复合镀层的摩擦系数有所降低,而Ni-Mo-Gd-MoSi2复合镀层的摩擦系数明显下降。
    3.3.4复合镀层形貌分析
           (a) Ni-Mo镀层形貌                         (b) Ni-Mo-MoSi2复合镀层形貌                    
      (c) Ni-Mo-Dy-MoSi2复合镀层形貌                 (d) Ni-Mo-Gd-MoSi2复合镀层形貌
    图3.4 不同镀层表面形貌
    图3.4是不同镀层表面形貌的照片。从图(a)可以看出,Ni-Mo镀层表面比较平整,致密。而图(b)Ni-Mo-MoSi2复合镀层表面颗粒增加,与Ni-Mo镀层表面球形颗粒不同的是,复合镀层表面颗粒嵌入镀层中,边缘立体感减弱,边界变得模糊。经过能谱分析知这些颗粒的MoSi2,表面还覆盖了Ni,Mo金属镀层。添加Dy(Gd)的复合镀层(图c、d)结构较紧密,MoSi2微粒分散均匀。而图(c)、(d)还可以看出,Ni-Mo-Gd-MoSi2复合镀层表面晶粒较大,结构致密,而Ni-Mo-Dy-MoSi2复合镀层晶粒小而球化。故添加不同稀土得到的镀层的结构和颗粒大小是不同的。

    4 结论
    采用机械搅拌的脉冲电镀的方法制备Ni-Mo-Dy(Gd)-MoSi2复合镀层,研究了Dy(Gd)的浓度、电流密度、频率、占空比以及电镀时间分别对Ni-Mo-Dy(Gd)-MoSi2复合镀层硬度的影响,分别利用扫描电镜、电子能谱仪、X射线衍射仪及摩擦磨损仪对镀层进行表征,制备Ni-Mo-Dy-MoSi2复合镀层的最佳工艺为: Dy3+最佳浓度为0.4g/L,施镀时间为25min、频率为3000Hz、正向占空比为0.4、正向电流密度为13.2A/dm2;Ni-Mo-Gd-MoSi2复合镀层Gd3+最佳浓度为0.3g/L,施镀时间为20min、频率为3000Hz、正向占空比为0.5、正向电流密度为12.0A/dm2,在该条件下测得的硬度分别为838.68HV和846.2HV,与Ni-Mo-MoSi2复合镀层的硬度(618.36HV)相比,其硬度明显变大。与Ni-Mo-MoSi2复合镀层相比,Ni-Mo-Dy(Gd)-MoSi2复合镀层中二硅化钼含量显著增加,耐磨损性和耐高温性也有所提高,且得到的镀层晶粒细小、结构致密。
    将不同镀层的EDX图相比较,Ni-Mo-Dy-MoSi2和Ni-Mo-Gd-MoSi2复合镀层含有MoSi2比不加稀土的镀层含量分别多6.67%和93.3%,说明加入稀土对于MoSi2含量增加起到促进作用,同时发现Ni-Mo-Dy(Gd)-MoSi2复合镀层分别含有10.6%Dy和8.41%Gd元素。
    通过比较四种不同镀层的X射线衍射峰,衍射峰基本没有改变,添加MoSi2微粒或者稀土元素Dy(Gd)并没有改变其晶态,也没有新相产生。通过比较不同复合镀层物理膨胀曲线得到Ni-Mo-Dy(Gd)-MoSi2复合镀层与Ni-Mo-MoSi2复合镀层的热稳定性相近。
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