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    摘  要:光催化技术是一种基础纳米技术,诞生于二十世纪七十年代,在我国一般会用光触媒来称呼光催化剂。近十几年来,半导体光催化剂被很多人所关注,这其中的主要原因是因为半导体光催化剂能够解决能源和环境污染方面的问题。卤氧化铋是一种新型半导体光催化剂,在和其他类型的半导体光催化剂相比时卤氧化铋的催化性能要强的多,这是因为卤氧化铋自身具有独特的层状结构和适合的禁带宽度的原因,所以卤氧化铋是近年来新型光催化剂的研究热点之一。卤氧化铋的光催化活性随着卤素原子序数的增加而逐渐增强。此外,卤氧化铋光催化剂的稳定性也非常高。本文主要对卤氧化铋光催化剂的制备方法、形貌尺寸及光催化性能进行综述。28747
    毕业论文关键词:卤氧化铋;光催化剂;制备;光催化性能
    Preparation and Photocatalytic Properties of BiOX and Its Composite Photocatalyst
    Abstract: The photocatalytic technology was born in twentieth Century seventy based nanotechnology,in our country will generally be used to call the photocatalyst photocatalyst.In recent years,semiconductor photocatalyst was a lot of people are concerned,the main reason for this is because the semiconductor photocatalyst can solve the energy and environmental pollution problems.Halogen bismuth oxide is a new type of semiconductor photocatalyst,photocatalyst in stronger catalytic performance and other types of halogen bismuth oxide when compared to many,this is because the BiOX itself has a unique layered structure and a suitable band gap,so the halogen bismuth oxide is one of the hot research of novel photocatalysts in recent years to.The photocatalytic activity of bismuth oxyhalide was increased with the number of halogen atoms.In addition,photocatalysis has very strong stability.This paper focuses on the photocatalysis preparation methods,morphology and photocatalytic properties were reviewed.
    Key words:Halogen bismuth oxide;Photocatalyst;Preparation;Photocatalytic performance
    目    录
    摘  要:    1
    引  言:    2
    1. BiOX(X=Cl, Br, I)的结构    2
    2. BiOX(X=Cl, B r, I)的制备方法与形貌    3
    2.1制备方法    3
    2.2产品形貌    4
    3.BiOX(X=Cl, Br, I)的光催化性能    5
    3.1氯氧化铋(BiOCl)光催化剂    5
    3.2 BiOBr和BiOI光催化剂    6
    3.3影响BiOX光催化效率的因素    7
    3.4 BiOX半导体光催化剂的改性    7
    4.结论与展望    8
    参考文献    8
    BiOX及其复合光催化剂的制备及光催化性能
    引 言
    近几十年来,随着经济的快速发展,工业化进程加快,人们活动范围渐渐扩大,大量的废物排入自然之中,尤其是近年来化学纤文的应用,产生了大量的印染废水。环境污染问题日趋严重。所以说当今世界,最迫切解决的问题就是环境污染和能源短缺了。自从日本教授Fujishima等在一九七二年发现在光照下二氧化钛能分解水以后,半导体光催化剂的研究已成为热点[1]。半导体光催化技术就是在这样的背景下逐步发展起来的。它是运用半导体材料在受光激发后能在半导体表面上产生光生电子空穴对的特性能够将污染物彻底分解,并且不会产生再次污染。半导体材料光催化的本质是利用光激发半导体产生具有高活性的光生电子空穴对,进而与有机污染物发生一系列反应最后生成无毒的CO2和H2O。所以光催化技术在近几年来已经成为一种极具应用前景的绿色环境治理以及保护技术。其中又以二氧化钛光催化剂最具有代表性。但是,由于二氧化钛的O2p轨道的化学能级位置低,禁度宽带较大,因此只能吸收紫外光,对可见光的利用率很低,所以为了提高对可见光的利用率迫切需要寻找其他的新型光催化剂来代替。近些年来开发出了许多新型光催化剂,其中又以Bi基化合物最受注目。在之前的研究中,金属离子铋会对TiO2进行掺杂改性;然后就发现很多铋基化合物如卤氧化铋、氧化铋、钨酸铋以及其他的一些较为复杂的铋基化合物,都具有光催化活性。在这其中卤氧化铋系列的化合物最具有代表性,它们受到人们的关注就是因为它们具有很高的稳定性和光催化活性。
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