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薄膜材料是指以金属氧化物、氮化物、碳化物或金属间化合物等无机物为原料，采用特殊工艺在一定材料（又称衬底或底材）的表面上涂覆约为0.01~数微米的一层或多层涂层材料。薄膜在基片上的形成涉及原子或分子在基片表面上的形核、迁移和随后的薄膜生长过程，其在基片表面上发生化学反应，或者发生物理变化。
作为一种重要的薄膜材料，聚四氟乙烯薄膜由于具有结晶度高，分子定向排列紧密，空隙率小，性能稳定，介电性优良，耐热性，耐化学腐蚀性及疏水特性，受到人们越来越多的关注。聚四氟乙烯薄膜分为聚四氟乙烯彩色薄膜，聚四氟乙烯活化膜和F46薄膜，其在防腐蚀、低摩擦、电子电气、医疗医药、防粘性能的应用上取得了巨大的成就。聚四氟乙烯乙烯薄膜作为薄膜材料中的典型，其疏水特性的研究[4～6]更是备受人们的关注。
1.1 薄膜的制备方法
现有的薄膜制备方法有很多，按照原理可分为气相法和液相法两大类。
1.1.1 液相法
液相法是近年来发展起来的一种新方法，该成膜过程不需热处理，操作简单，并可以在形状复杂的基片上制备薄膜。常用的液相法主要有：
液相沉积法(LPD)：原理是通过液相中原子或分子的自身作用或者是通过加入某些可以与原料反应的物质，驱动成膜物质在基片上形成薄膜。
溶胶－凝胶法[7]：溶胶-凝胶法制备的纳米结构对超疏水性能起到重要的作用,它可以产生很高的接触角,在国外发达国家的超疏水涂层研究中占有非常重要的地位。
Daoud[8]等用几种长链的硅烷偶联剂的共水解和缩聚反应在棉物品上低温下制备透明和耐久的超疏水硅基杂化膜。Pilotek[9]等利用含氟烷基三乙氧基硅烷在气-液界面聚集的特性采用溶胶-凝胶法在低温下与四乙氧基硅烷及气相硅石等一起制备出超疏水表面。Tadanaga[10]等用Al(O2sec-C4H9)3 化学修饰后在底物上制备出20 nm～50 nm 细小粗糙度的Al2O3 凝胶透明的超疏水薄膜。
水热法：水热法是利用高温高压的水溶液使那些在大气条件下不溶或难溶的物质溶解，或反应生成该物质的溶解产物，通过控制高压釜内溶液的温差使产生对流以形成过饱和状态而析出生长晶体的方法。
模板法[11] ：模板法是国内最为常用的制备超疏水涂膜的方法,是一种整体覆盖的表面技术。模板法以具有粗糙结构的固体为模板,将疏水材料通过挤压或涂覆后光固化等技术在粗糙固体表面成型、脱模而制得超疏水薄膜。以中科院化学所为首的科学家们以多孔铝板[12]、植物叶或花瓣[13]、硅橡胶软模板[14]、具有微米级阵列和纳米孔阵列的铝板[15]等为模板,结合特定的技术制得超疏水薄膜。
1.1.2 气相法
气相法按原理分为两大类：物理气相沉积法(PVD)和化学气相沉积法(CVD)。
物理气相沉积法[16]包含有物质的气化、升华和急冷过程，该过程在非平衡态进行，可以制备在平衡态下不存在的物质。PVD利用蒸镀材料或溅射材料来制备薄膜，同时采用电阻加热或电子束、离子束、激光束等新型激发源作为蒸发源或溅射源。
化学气相沉积法[17]是一种化学气相反应生长法，它是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质、气体供给气相反应或在基片表面上的化学反应生成要求的薄膜。与物理气相沉积法相比，CVD在相对较高压力环境下进行，且需要高温。化学气相沉积法分为金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)[17]和等离子体活化蒸发法(PECVD)。论文网
1.2 PTFE薄膜的结构和性质