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1 文献综述
1.1 分子印迹技术概述
分子印迹也叫分子模板技术，分子印迹技术具有良好的构造预定性、特异识别性和广泛实用性。制备出的分子印迹聚合物具有高度的选择性、稳定性和长的使用寿命等优点。由于分子印迹聚合物是由化学合成方法制备的，因此又具备抗恶劣环境的能力。分子印迹技术是在对抗体-抗原、酶-底物的独特性认识下诞生的，分子印迹的思想最早起源于诺贝尔奖获得者Pauling[1]提出的抗体形成学说，虽然"克隆选择理论”把该学说所取代，但是Pauling的理论为以后分子印迹的发展奠定了一定的根蒂。1949年，Dicky[2]首次提出"专一性结合”的概念，并用实验验证了分子印迹技术的巨大潜力。1972年，德国的Wulff[3]研究小组初次报导了人工合成的有机分子印迹聚合物后，分子印迹技术才渐渐被人们所了解。1993年，瑞典的Mosbach等在Nature上发表了有关茶碱分子印迹聚合物的研究文章后，分子印迹技术获得了极大的推广与研究[4]。论文网
分子印迹聚合物的构效预定性、特异识别性和广泛实用性的三大特征使得该技术在许多领域获得了广泛的利用，全球的许多学术机构和企业事业单位团体均在从事分子印迹技术的研发工作，包含化学传感器、固相萃取、色谱分离分析等。
1.2 分子印迹技术的基本原理
分子印迹技术是以目标分子为模板分子（印迹分子），后与交联剂在聚合物单体的溶液中聚合，两者之间发生相互作用，形成具有固定空穴大小与三维立体结构、排列功能基团、形成特定的空间构象的分子印迹聚合物，聚合结束后用化学方法或者物理方法除去模板分子，得到分子印迹聚合物的过程。因此该过程的制备通常可以概括为以下三个步骤：1.预拼装 聚合物单体和印迹分子在必定条件下构成可逆的复合物。2、聚合过程 在复合物中加入交联剂制成高聚物。3、模板洗脱 用一定的溶剂将模板分子从高聚物中洗脱出来，形成具有一定空间架构的印迹分子。
图1 分子印迹聚合物的制备。a-d指模板分子的四种官能团，与之相对应的是单体与模板的四种不同结合方式：（a）非共价键（氢键）；（b）可逆共价键；（c）半共价键，也称牺牲空间法；（d）静电力
1.3 分子印迹技术的分类
按功能单体和模板分子作用力的差别，分子印迹技术可分为预组装和自组装两种印迹技术。
预组装分子印迹技术，模板分子与功能单体通过可逆共价键在聚合前形成共价型化合物，然后交联聚合，聚合后再打开共价键，进而洗脱模板分子。一般说来，共价键的作用力强，优点在于形成的化合物稳定性强，空间位置固定性准确，然而，有利有弊，在分子识别过程中结合和解离的速率较慢，所需的能量较高，难以达到热平衡，因此制备条件苛刻，故预组装法发展缓慢。
自组装分子印迹技术，又可称为非共价键法，顾名思义，模板分子与功能单体是经过氢键、金属螯合、偶极、电荷转移和范德华力等非共价键方式相互作用。因为非共价键的作用力较弱，在温和条件下脱除模板分子，过程简单。然而此法的缺点在于所制备的聚合物对印迹分子的选择性较差。文献综述
1.4 分子印迹聚合物的制备要素
分子印迹聚合物的制备通常包括以下要素：模板分子、功能单体、交联剂、聚合物母体，反应条件和聚合方式等，其中模板分子、功能单体和交联剂是制备聚合物不可缺少的三个要素。
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