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（3）若行星系统中，角速度ω2远大于角速度ω1，即磨球的自转速度远远超过公转时，磨球在罐内运动时将不会脱离球磨罐的内壁，此时球磨机将失去对物料的研磨作用。
陈世柱、黎文献、尹志明[7]采用相对角速度法和几何分析法对立式行星式高能球磨机进行了运动和动力分析。从中可以得出的结论是：
（1）行星式球磨机由于磨球在脱离时具有较大的动能，因而能对物料产生较大的冲击。撞击力的大小与转速有关，随着转速的增大，撞击力成平方增加[7]。
（2）在行星式球磨机中，磨球脱离球磨罐的位置与行星系统的设计尺寸（中心距、球磨罐直径等）有关，而与转速无关；在临界转速以内，提高转速，可增大磨球脱离时的动能，对物料的撞击力增大，撞击频率增高，从而提升球磨机的研磨效果。
（3）磨球从罐体脱离后，在撞击向对侧罐体时，对沿径的物料进行压碾和磨擦，并对对侧罐体上的物料产生强烈的冲击，从而迅速减小物料的粒度。
（4）由于磨球运动过程中对物料强烈而复杂的压碾摩擦和撞击，对单一材质物料，其量级能够迅速的减小至使用要求，对多元混合物料，能够使不同物料的粒度减小的同时产生粒子间的结合。
而对于卧式行星球磨机的研究则得出以下结论：
当卧式行星式球磨机工作于泻落状态时, 物料混合体在滚筒内作环流运动, 物料的质点在环流运动过程中不断地受着“ 搓动” 作用[8]。各层物料质点所受到的挤压力不同，各层做环流运动的速度也不同，物料的破碎研磨实际靠的是各物料层相互之间的挤压撞击和摩擦。通过改变转筒公转速度, 物料之间的研磨挤压力也会随之改变; 而改变自转速度n , 则可改变物料层之间的搓碾频率[9]。公转和自转转速的提高, 均有利于物料的研磨运动, 但自转速度的提高是受约于公转速度的，自转转速与公转转速之比为系统传动比。为此, 引入了行星球磨机的特性参数 Φ(Φωn / ωn) , 而Φ的大小, 由球磨机的设计参数决定[10]。因此，可根据不同的设计参数来设计出用于不同场合和作用的球磨机。
通过实验，得出球磨机的最佳物料填充率0.4，而磨球的最佳填充率为0.34，此时，球磨机所消耗的功率最小，而研磨效果却是最佳。
行星式球磨机在材料尺寸确定下，影响其性能最主要的因素主要有转速、球粉比、球配比等[13]。而转速包括公转速和自转速，公转速越大则研磨效率越高，但公转速过大时将引起自转速过大而使磨球紧贴球磨罐内壁不脱离而失去球磨作用，因此要综合考虑两者的关系。而球粉比与球配比则需要根据具体的粉料进行计算[14]。
行星研磨, 创新了传统的粉末研磨工艺, 功率利用率大大提高, 减少了研磨过程中无用功的损耗, 由于物料研磨运动加速度a 的技术性突破, 从而使物料的研磨细度、生产效率等均有较大幅度地提高[15]。因此行星研磨工艺在陶瓷精细研磨等领域中, 必将越来越受到广泛的应用。而随着电子材料发展愈加趋向于微型化和集成化，行星式球磨机也将向着智能化，连续化发展。
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