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    (7) 离子蒸发及溅射源

    磁控溅射镀膜一般采取长方形或圆柱形靶材。

    参考资料

    [1] [德]穆斯等 著;孔建益 译 机械设计（原书·第16版）．

    [2] 张而耕,吴雁.现代PVD表面工程技术及应用。科学出版社，2013．

    [3] 何璧生.旋片式真空泵.真空,第二期,2002.4

    [4] 徐颖主编.机械设计手册.北京：机械工业出版社，1995

    [5] 冯辛安.机械制造装备设计（第二版）.北京：机械工业出版社，2006年3月．

    [6] 刘玉波.旋片式真空泵的研究.[硕士学位论文].兰州理工大学.2010

    [7] 张以忱.真空镀膜设备.北京：冶金工业出版社 ,2009.08  

    [8] 何璧生.旋片式真空泵的结构原理和设计计算上.通用机械.第五期.2003

    [9] 何璧生,旋片式真空泵的结构原理和设计计算(下),通用机械,2003年第6期,

    [10] 何璧生,旋片真空泵的漏油成因与防治,真空,1994年第4期,30一32

    [11] Pallares J,Grau F X,Davidson L.,Pressure drop and heat transfer rates in forced convection rotating square duct flows at high rotating rates, Physies of fluids,2005

    [12] A.B.Tranmsehek,M.h.mkumbwa.MathematiealModelingofRadialand Non一radialRotarySlidingVaneColllPressorProeeedingofICEC,1996

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    [14] Center for Composite materials，Harbin Institute of Technology，Harbin 150080，China

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