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早在20世纪70年代就有关于激光驱动飞片的研究[1]。但90年代以后才真正盛行开来[2-4]。它响应快、时间控制精度高、抗电磁干扰能力强，并且起爆炸药的可靠性最高，这正是现代引信所需要的，因此成为了90年代以后世界各国研究的热点。美国Sandia国家实验室、Los Alamos国家实验室从90年代开展了大量的研究工作[5-10]。激光器一般采用10～30 ns脉宽的调QYAG激光器，金属薄膜选用Al或Cu。68461
董洪建等[11]将磁控溅射镀、膜场致热扩散成膜、涂层粘膜、和胶粘剂粘膜4种粘膜方法所制得的飞片进行了测验，得出的结论是: 用胶粘剂粘膜制得的飞片光强中心处呈撕裂状；磁控溅射镀膜制得的飞片很脆；只有场致热扩散成膜和涂层粘膜两种方法可获得完整的飞片。然而，综合比较几种方法，磁控溅射镀膜制作的飞片厚度容易控制，操作很简单，能按照需要制得一定厚度的单层或多层膜，还能保证膜的纯度。因此被广泛的运用。
劳伦斯和Trott等人[12]于1993年出版了一本详细的理论分析。他们为飞片速度做了一个预测模型，也包括其他因素。次年Farnsworth[13]发表了用LASNEX的进一步计算，研究复合箔。他的报告表示对复合飞片（铝/氧化铝/铝）进行大大地撞击能驱动含能材料。他表明，氧化铝绝缘层能够防止铝冲击器自熔，从而增加飞片的稳定性。
斯塔尔和佩斯利[14]在1994年获得了碳辅助飞片的专利。他们描述了在基板或纤维与金属箔之间的碳层。它对降低反射率有影响，从而提高了能量传递效率。他们发现声速在碳等离子体中要高于大多数金属，这样使得压力梯度被均衡的更快。有人提出，这可能会使得飞片更为平整。他们还说这些飞片比金属烧蚀层具有更高的加速度和速度。论文网
Hatt和Waschl[15]在1996研究了单一金属膜和复合膜所产生的飞片，结果表明，烧蚀层材料用Mg比用Al形成的飞片速度高出27％。Labaste等人[16]研究了数种作为驱动飞片的烧蚀层材料，其中包括Al，碳黑，Ha，Ti和Ge，但飞片材料为A1203／Al复合膜层。研究表明，当激光能量密度为30 J·cm-2时，Ge (0.15µm)和碳黑(0.5µm) 作为烧蚀层时形成的飞片速度比Al作烧蚀层时形成的速度高10％左右。其中，Ge和碳黑对激光的反射率均比Al要低。
Paisley[17]在实验中使用0.5 µm C／0.5 µm Al／0.5 µm Al203／3 µm Al的复合飞片靶，其中C／AI层是吸收层，用于产生等离子体。Crreenawa等人[18]在他们激光飞片起爆炸药的系列研究中，开始使用的是单层Al膜作飞片靶，后期研究中他们在飞片层中加入了一层绝热材料[19]，他们发现绝热层的存在使飞片的速度增加了30％。
高杨[20]在提到激光起爆技术时，总结了复合靶的结构，包括发射层、能量截止层和飞片层。所以总体上看来，飞片靶材结构主要有单膜结构和多膜结构。比较下来，复合膜的飞片耦合能量更高，并且在一定程度上能保证飞片在飞行过程中的完整性。