摘要二文二硫化钼有着优秀的电子性质和机械性能。单层二硫化钼已经在纳米电子器件和光电器件中展示出美好的应用前景。在本论文中，采用锂插层的方法进行二硫化钼剥离；通过AFM，SEM，TEM等手段进行剥离样品的表征。我们针对实验中重要的反应温度和离心速率设计了两个系列的实验。最终，我们发现70℃的反应温度和6000r/min的离心速率制备出的样品最佳。
反应温度过高或者过低，都会出现二硫化钼碎片。19247
离心速率太高，只能得到MoS2量子点；离心速率太低，提纯效果差。
关键词  二硫化钼  锂插层剥离
毕业论文外文摘要
Title       The Synthesis and Characterization of Single Layer MoS2                                                       
Abstract
The 2D MoS2 are expected to have electronic properties varying from metals to semiconductors with excellent mechanical characteristics. The monolayer MoS2 materials have already shown a good potential in nanoelectronic and photonic applications. In our experiments, lithium intercalation and exfoliation are used to prepare layered MoS2.AFM, SEM and TEM are employed to measure our samples. In our conclusion, 70℃ and 6000r/min are the most appropriate parameter to prepare monolayer MoS2.
In neither too high nor too low reaction temperature, nanosheets are mixed with fragments in the samples MoS2.
During centrifugation purification，the rate is critically important. Only
MoS2 quantum dots were got with a high rate; the quality of samples is bad.
Keywords    MoS2  Lithium  Intercalation and Exfoliation
  目  次
1  绪论1
1.1  引言1
1.2  薄层二硫化钼的光物理性质3
1.3  单层二硫化钼的制备简介4
2  单层二硫化钼的制备与表征6
2.1  样品制备6
2.2  表征方法9
3  实验13
3.1  反应温度14
3.2  离心速率16
结论 20
致谢 21
参考文献22
1  绪论
1.1  引言
辉钼矿是一种常见的钼矿，而二硫化钼是其主要成分。二硫化钼为粉末状，具有灰色或黑色金属光泽，稳定性较高。二硫化钼的晶体结构主要有三种：1T型，2H型和3R型。尽管三者的空间点群和单胞结构不完全相同，但是同为类似的层状结构。
表1  二硫化钼的物化性质表
色泽    天然矿呈铅灰色(人工合成产品则为呈黑色)，具金属光泽
分子量    160.17
密度    4.6g/cm3
熔点（分解温度）    2375℃
稳定性    空气中350℃开始氧化；保护气氛下，1370℃开始分解；1600℃分解为金属钼和硫。
莫氏硬度    1.0~1.5
工业制备二硫化钼有两种常见的工艺路径，一是物理提纯，另一是化学合成。
①天然辉钼矿提纯。辉钼矿主要成分为二硫化钼。通常做法是，先浮选提纯，达到国标的40%以上的纯度；而后在酸洗提纯，可提纯至60%的高纯度。
②人工合成。
真空下，硫单质和钼金属粉末高温化合，纯度亦可达到60%左右。最新研究表明，合成法生产的高纯二硫化钼在润滑方面尚有不足，原因在于产物的结构不稳定，硫钼原子的比例不稳定，存在1.9：1或2.1:1的情况。
而纯二硫化钼的制备为如下流程：
(I)用盐酸（HCl）和氢氟酸（HF）直接在蒸汽下加热精辉钼矿，反复不停搅拌，再用热水洗涤样品、离心提纯、干燥粉碎，可制得高纯MoS2。 单层硫化钼的制备及表征:http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_10542.html