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稀土掺杂LiYF4晶体生长研究(2)

时间:2018-06-22 09:35来源:毕业论文
以三价稀土离子Nd3+替换 Y3+,并不存在电价不平衡的问题,掺杂以后仍然是白 钨矿结构。LiYF4掺杂镧系稀土离子的激光晶体可以实现从红外到紫外波长范围


以三价稀土离子Nd3+替换 Y3+,并不存在电价不平衡的问题,掺杂以后仍然是白
钨矿结构。LiYF4掺杂镧系稀土离子的激光晶体可以实现从红外到紫外波长范围
内的激光振荡,是融点为 819℃的激光用晶体。掺杂以后化学分子式变成
LiY1-xNdxF4,但是由于两种离子的半径并不匹配,Nd 的离子半径为 0.112nm, Y
的离子半径为0.1015nm,所以导致掺杂以后晶体的内应力增大,晶体容易断裂,
增加了晶体生长的难度。另外,晶体 Nd:LiYF4能产生 1.047μm 和 1.053μm 的
激光,具有负折射率温度系数,其热导率比 YAG 小 1/2 左右,热透镜效应特别
低,也具有良好的热稳定性。该晶体可作为激光核聚变主振荡器的工作物质, 并
获得高质量的脉冲激光。 在掺杂稀土钕离子之后的氟化钇锂的物理性能和激光性
能都呈现各相异性,钕离子在晶体中荧光寿命长,使其有利储存能量。此外, 该
晶体的吸收带宽,荧光寿命长,使其成为LD 泵浦激光器的优良工作物质。图 1.3
为坩埚下降法生长出的掺杂钕的氟化钇锂晶体[10]
。近年来,掺杂铈离子的氟化钇锂晶体在紫外可调谐激光器方面的应用,也已
成为研究热点之一。无掺杂和 Ce 掺杂量为 0.1%、1%、2%、3%、5%、10%的
LiYF4单晶有新的组成, Li (Y1-XCex) F4 (x = 0、 0.001、 0.01) 和 Li1.1(Y1-XCex)0.9
F4(x= 0.02、0.03、0.05、0.1) ,可以通过μ-PD方法来进行晶体的生长[13]
。从原料开始,LiF、YF3和纯度超过 3N 的 CeF3粉末,均匀混合在一个玛瑙研钵中,
充分研磨后,装入碳坩埚并调节好生长参数进行生长。为了去除原材料表面的吸
附水,晶体的生长是在高纯度的 CF4和 Ar 的混合气氛中,整个过程需要混合气体是在高真空状态下(~ 10-4
Pa)。晶体的生长速度约为6mm/h,成功生长出的样本典型尺寸为7×2×1 mm3,对晶体进行切割,研磨抛光等加工以后,可以进行闪
烁性能的测试。图 1.4 所示,不同的 Ce 掺杂量生长出的 LiYF4晶体,并对其抛
光处理后进行性能测试。随着激光技术的发展,半导体激光波长逐渐向短波移动,640nm 等波段的
LD 激光器已逐渐走向成熟。Ho3+离子的 5I6→5I7跃迁也能发射较宽的 3μm 波段荧光。640nm 的泵浦光有利于 Ho3+的吸收,因此以 Ho3+为基础的中红外激光器
件有望得到较快的发展,而研究 Ho3+离子在各种基质中的光谱参数及 5
I6→5I7跃迁的特性极为重要。
激光基质材料对于激光输出以及最后的应用具有重要的作用。通常,激光晶
体由于热导率高、荧光谱线窄、硬度较大等优良的物理化学性质而成为全固体激
光器最基本的激光工作物质。LiYF4单晶体是一种优秀的激光基质材料,它具有
声子能量低、热导率大、光透过性高、色心形成量少、热透镜效应小、激光功率
阀值低等优点,是当前热门的激光活性基质。目前对 Ho3+掺杂的激光晶体的研究基本上集中在2.0μm(对应 Ho3+的 5
I7→5I8跃迁)方面,3μm 左右的中红外发光研究只有少量报道,而 Ho3+掺杂的 LiYF4晶体 3μm 左右中红外荧光的研究至今
尚鲜有报道。目前可以采用坩埚下降法生长出 Ho∶ LiYF4单晶体[17],如所示,并对其进行测试。 稀土掺杂LiYF4晶体生长研究(2):http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_18137.html
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