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4H-SiC晶体中Shockley层错的TEM观察(3)

时间:2021-06-08 19:35来源:毕业论文
40 115 101 471 400 本征载流子浓度ni(cm-3)(300K) 1.510-1 510-9 1.610-6 1.01010 1.8106 介电常数 9.72 9.66 11.7 12.5 由表1 可知, SiC 热稳定性极好, 它保证了在高温工作时的长期

40 115 101 471 400

本征载流子浓度ni(cm-3)(300K) 1.5×10-1 5×10-9 1.6×10-6 1.0×1010 1.8×106

介电常数ε 9.72 9.66 11.7 12.5

由表1 可知, SiC 热稳定性极好, 它保证了在高温工作时的长期可靠性; SiC 禁带宽度宽, 漏电流比硅小几个数量级, 本征温度可达800°C 以上。这些性质使SiC 非常适用于高温电子学领域。SiC击穿电场较高, 是硅材料的8倍, 这对功率开关器件甚为关键。由于导通电阻与击穿电场的立方成反比, 所以, SiC 功率器件的导通电阻只有硅器件的1/100~1/200[4]。另外, 通过分析各种材料的优值, 如JFOM (通过材料E c、V sat来反映相应器件的高功率、高频率性能)、KFOM (通过材料λ、V sat及ε反映相应器件的开关速度和热限制) 及热优值QFOM (通过材料的λ、μ、E c 及ε反映相应器件的散热性能) , 发现SiC的几个优值都比较高, 是实现高温与高频高功率结合的一种理想材料,表1-2是几种半导体材料优值[5]的比较:

表1-2    几种半导体材料优值的比较

材料 Si Ge GaAs GaN 金刚石 3C 6H 4H

JFOM 1.0 2.67 16.67 90.0 26.67 41.7 50.0

KFOM 1.0 0.49 1.77 40.28 3.13 5.84 5.84

BFOM 1.0 0.78 13.03 62.03 4.71 4.31 8.04

BHFOM 1.0 0.29 10.55 11.26 1259.3 118.5 74.1 160.0

QFOM1 1.0 0.06 5.45 59.92 323340 2576 3354 8694.7

QFOM2 1.0 0.002 7.27 399.2 4H-SiC晶体中Shockley层错的TEM观察(3):http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_76457.html

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