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    2.1.1  磁控溅射装置

    本实验所用的装置如图2.1所示，是沈阳科有真空技术研究所制造。该设备的极限真空度优于510-4 Pa，其预抽真空度为1 Pa～10 Pa，它的前级泵为8L·s-1的旋片式机械泵，二级泵是1200 L·s-1的复合型分子泵。

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