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所谓激光驱动飞片起爆就是利用高能激光辐照镀在光学窗口或光纤末端的金属薄膜，产生高温高压等离子，等离子膨胀推动剩余薄片，形成飞片高速撞击炸药，实现起爆。早在20世纪70年代就有关于激光驱动飞片的研究[1]。但是真正的激光驱动飞片起爆技术研究盛行于90年代以后[2-4]。激光驱动飞片技术满足时间控制精度高、响应迅速、抗电磁干扰，并且起爆炸药的可靠性最高，满足现代引信需求，因此成为90年代以后研究的热点。美国Sandia国家实验室、Los Alamos国家实验室从90年代开展了大量的研究工作[5-10]。激光器一般采用10～30 ns脉宽的调Q YAG激光器，金属薄膜选用Al或Cu。2000年，Sandia国家实验室在芯径0.4 mm的光纤端面淀积约10 pm厚的铝膜，采用脉宽25 ns、单脉冲能量30 mJ的激光辐照后产生飞片，速度达到3 km／s，激光能量转化为飞片动能效率为35％。63830
董洪建等[19]测验了场致热扩散成膜、涂层粘膜、磁控溅射镀膜和胶粘剂粘膜4种粘膜方法所产生的飞片，结果显示:磁控溅射镀膜产生的飞片太脆；用胶粘剂粘膜产生的飞片光强中心处呈现撕裂状；只有场致热扩散成膜和涂层粘膜2种方法可获得完整的飞片。然而，目前应用最广泛的飞片靶的制作方法却是真空磁控溅射法。这是因为该方法制作的飞片厚度容易控制,操作比较简单，可按照需要制得一定厚度的单层或多层膜，并能保证各层膜的纯度。
劳伦斯和Trott等人[20]于1993年出版了一本详细的理论分析。他们为飞片速度做了一个预测模型，其中包括其他因素。同一年佩斯利报道了在铝飞片上的测量速度，尽管这些自由空间的提出，明显是针对材料的冲击特性。他能够推导高应变速率（108/s）和压力（> 100 GPa）。次年Farnsworth[22]发表了用LASNEX的进一步计算，研究复合箔。他的报告说，对复合飞片（铝/氧化铝/铝）进行大大地撞击能驱动含能材料。他表明，氧化铝绝缘层能够防止铝冲击器自熔，从而增加飞片的稳定性。论文网
斯塔尔和佩斯利[21]在1994年获得了碳辅助飞片的专利。他们描述了在基板或纤维与金属箔之间的碳层。它对降低反射率有影响，从而提高了能量传递效率。他们发现声速在碳等离子体中要高于大多数金属，这样使得压力梯度被均衡的更快。有人提出，这可能会使得飞片更为平整。他们还说这些飞片比金属烧蚀层具有更高的加速度和速度。佩斯利随后报告了有影响力的研究即使用激光驱动飞片，包括对铜目标的影响。Trott再次表明，引入氧化铝层到铝飞片可以在一个给定的能量下使复合飞片达到更高的速度。他还表明，飞片在飞行中遭受侵蚀，在超过200微米飞行中会发生显著的侵蚀。他觉得氧化铝层能延缓这个过程。然后，他研究了等离子体，进一步研究飞片上侵蚀的深度。对纯铝和铝/氧化铝复合飞片进行研究，并记录其强度和光谱组合物的等离子体。复合飞片，拥有更高的强度峰值与较长的发射时间，建议用氧化铝层来对热量加以限制。他观察了二氧化硅的显著释放，即薄膜照射时所释放出的光学纤维，该现象符合法恩斯沃斯早期的计算结果。薄（0.01微米）的各种金属层被嵌入在不同深度的飞片内。通过查看这些在不同深度层的排放物，可以测量侵蚀程度。对于4.0微米纯铝锭翼，其侵蚀厚度约为0.5微米。
Hatt和Waschl[11]在1996研究了单一金属膜和复合膜所产生的飞片，结果表明，烧蚀层材料用Mg比用Al形成的飞片速度高出27％。Labaste等人[12]研究了数种作为驱动飞片的烧蚀层材料，其中包括Al，碳黑，Ha，Ti和Ge，但飞片材料为A1203／Al复合膜层。研究表明，当激光能量密度为30 J·cm-2时，Ge (0.15µm)和碳黑(0.5µm)作为烧蚀层时形成的飞片速度比Al作烧蚀层时形成的速度高10％左右。其中，Ge和碳黑对激光的反射率均比Al要低。