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光谱发射率随结构参数的变化情况表明,通过合理选择光栅的结构参数可以让我们获得更好的,更能被前沿科学运用的辐射特性。具有微结构表面的LSMO热致变色薄膜的表面发射率明显增强,相比于光滑表面的薄膜,热致变色特性也起到了明显的改善。故而将光栅结构与热致变色薄膜进行结合性研究,是提升热致变色性能的必须的研究手段和方向。通过对二者的结合性研究,更有利于我们得到热辐射性能最好的结构,
1.2 热致变色薄膜微结构
发展现状
1.3 研究内容
本文研究内容,包括以下几点:
1.构建基于热致变色薄膜的光栅结构计算模型,即建立二文以硅为基底,覆盖La0.8Sr0.2MnO3薄膜的微结构模型,通过固定微结构方孔的边长和填充因子,通过改变方孔深度的大小,模拟在真空环境下,用2.5~25um的电磁波照射该微结构,来研究深度变化对辐射特性的影响。
2.利用Rsoft软件对光栅微结构进行计算,并对实验结果进行分析。即通过Rsoft软件建立模型计算出热致变色薄膜的反射率,当然,有些数据的处理会在可控范围内偏离实验需要的准确值,但可以采用这些值作为参考量,进而得到其发射率参数,通过处理这些可用的实验数据,最后运用Origin软件对这些反射率数据进行批量有效的处理,得到曲线走势图,进一步通过曲线图可以直观的表现出在不同温度下,相同深度的影响。
3.综上所述,通过一系列的构建模拟图,模拟实验,得到有效数据,分析这些数据,进而分析微结构参数对热致变色薄膜辐射特性的影响,也就是通过计算在不同槽深光栅结构下的该结构的热辐射特性,得出其变化趋势,从而得到最优化的光栅结构。
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