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宽带隙半导体纳米晶的制备及光电性能(2)

时间:2019-03-02 14:46来源:毕业论文
表1.1 紫外探测器制备材料的性能对比表 材料 Si GaAs SiC GaN ZrO2 禁带宽度(eV) 1.119 1.428 2.994 3.36 4.87 熔点(℃) 1420 1238 2830 1700 2680 热导率(W/cm.K) 1.40 0.


 表1.1 紫外探测器制备材料的性能对比表
材料        Si           GaAs            SiC             GaN         ZrO2
禁带宽度(eV)   1.119        1.428          2.994            3.36       4.87
熔点(℃)       1420         1238           2830             1700       2680
热导率(W/cm.K) 1.40         0.54           4.9              1.5          -
电子迁移率       1350         8000           1000             900          -
介电常数         11.9         13.18          9.7               8.9         -
就现有的紫外探测器来说,其禁带宽度越大,电子迁移率越低,说明其导电性越差这直接影响了使用的可靠性与实用性。就目前而言,紫外探测器中GaN和SiC有逐渐取代Si的趋势,滤光是前者无法避免的诟病,而滤光是前者作为紫外探测器首要条件,不可避免,但是却非常昂贵。因而就紫外探测而言Si和GaAs并没有太多市场。        
随之发展,宽带系材料逐渐进入人们的视野 。氧化锆,其禁带宽度达到了5eV。其吸收光波长在270nm上下[2]。就这项数据而言,满足了基本要求,而其导电性的诟病,采用了衬底与氧化锆之间加上一层石墨烯薄膜,以增强其导电性。
现实产品中并不一定纯度越高越好,内部缺陷也是控制其性状条件之一。其中氧化锆的氧空位也是如此。
ZrO2晶体的光学性质已有较多的研究,因为其透光性能非常好, 在从400 nm 开始直至5 μm的波长范围内基本没有任何吸收, 但是对紫外光有强烈的吸收[3-4]。 而ZrO2粉体的吸收光谱与相应晶体有所差别, 表现在可见光区也存在一定的吸收, 这主要来源于粉体的表面对可见光的散射以及晶体内部的大量缺陷(氧空位、晶界、晶格失配、畸变、电荷中心等)对光的散射作用, 造成ZrO2粉体的白色而不是透明外观的现象[5]。 而且由于粉体与晶体的状态不同,大多数情况下, 氧化锆的粉体在400-500 nm波长内还有另一个弱的吸收峰[6], 主要来源于靠近Zr4+的氧离子空穴捕获的电子对光子的吸收。这个吸收峰对现阶段来说并不是很重要,更令人关注的是240-330nm范围内的峰值,因为首先前者是弱吸收峰,信号不强,难以应用,其次是可见光范围内以及有更加成熟的第一代第二代半导体材料。
ZrO2本身也具有一定的发光性质的[7], 就目前的研究成果上已有大量文献证实了ZrO2粉体、纳米晶、介孔材料在紫外光照射下的发光性能[8]。所有的报道均显示了在240-330 nm 的波长激发后, 上述各种ZrO2材料在385nm 和445 nm 位置有一个或两个甚至更多的呈蓝紫色的光致发光峰, 各种材料的发光位置相似, 只是随制备方法或掺杂杂质的不同有少量的偏移。 Emeline 等研究了ZrO2纳米粉体和ZrO2胶体浆的光致荧光发射(PL)和光致荧光激发(PLE)谱, 发现两者之间相差并不大, 但粒径对发光强度有一定影响[9-11]。 宽带隙半导体纳米晶的制备及光电性能(2):http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_30701.html
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