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    温度控制系统:该系统是镀膜设备的核心所在,在溅射期间测量真空室的温度,并进行精确调控,他关系到膜的质量和生产效率。

    人机交换界面:实现数据的转换和显示,通过外界人为的操作实现系统的安全运行和全程监控。

    2.2 设备工艺流程

    图1为磁控溅射镀膜设备的工艺流程图。

    PLC的磁控溅射镀膜设备温度控制系统工艺流程图

            图1工艺流程图

    3. 系统设计

    本文的主要目标是设计更加精确和稳定的温度控制系统,在磁控溅射时能够准确实时的监控真空室的温度变化。考虑到系统的经济性、稳定性、精确度本文采用PLC控制系统,以STEP7为平台搭载其他控制模块来实现温度系统的精确控制。

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