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1.1 课题背景
真空卷绕镀膜技术发展至今,已完全适应了现代工业生产的需要。传统的真空卷绕普通装饰镀膜不断发展,并衍生出了一系列专业性较强的真空卷绕功能膜镀制设备。真空卷绕镀膜技术的应用领域真空卷绕镀膜技术的应用领域很多，在传统的包装镀膜行业应用最广，其产品主要用于装饰,彩印等。
在功能性薄膜的应用领域中真空卷绕镀膜技术可用于激光防伪膜的镀制。另外在高速公路反光标志的制作过程中也少不了卷绕镀膜技术。此类产品镀层多为纯铝,基材以PET、BOPP、CPP、涂漆纸及复合玻璃微珠的纸等居多。在薄膜电容器行业，由于薄膜电容器很容易达到小体积高容量,，因此发展很快。此领域对真空卷绕镀膜技术的应用要求更为严格。体积的缩小要求基材更薄，其基材厚度一般为1.2～9μm。国内电容器厂家多用4～8μm的PET和BOPP薄膜。其中由于电学性能的影响，BOPP薄膜的应用又占总量的90%以上。电容器薄膜镀层多为纯铝和锌铝，银锌铝复合镀层也有应用。
应用感应蒸发原理的卷绕镀膜设备能够在基材上蒸镀ZnS、MgF及SiO2等化合物，以生产透明高阻隔材料及一些有着特定物理光谱的功能性材料。应用磁控溅射原理的卷绕设备能够在基材上镀制ITO、SiO2、In、Cu、Ni、Ti等金属、非金属及其氧化物。ITO膜可以作为冷发光材料。在棉布表面镀上SiO2可制成防电磁辐射的防护服,镀透Ni的海绵烧制后可做镍氢电池，镀上Ti等多种材料的基材可做柔性显示器件。
总之，真空卷绕镀膜技术发展至今，其应用领域越来越广,同样对真空卷绕镀膜设备的要求也越来越高。应用真空卷绕镀膜技术的设备分类常见的真空卷绕镀膜设备按其工作原理可分为：电阻加热蒸发真空卷绕镀膜设备；感应加热蒸发真空卷绕镀膜设备；电子束加热蒸发真空卷绕镀膜设备；磁控溅射真空卷绕镀膜设备等。其中电子束加热真空卷绕镀膜设备用于大量蒸镀高熔点物质如SiO2。而磁控溅射原理的卷绕镀膜设备生产效率较低,但具有镀膜适应范围宽,膜层附着牢的优点。真空卷绕镀膜设备按其用途可分为：装饰用真空卷绕镀膜设备，包装用真空卷绕镀膜设备，功能膜真空卷绕镀膜设备等。装饰用真空卷绕镀膜设备和包装用真空卷绕镀膜设备可细分为镀膜镀纸两用设备、镀膜专用设备、镀纸专用设备，其中镀纸专用设备侧重于向镀制大卷径的厚卡纸发展。
1.3本文的主要工作及内容
真空镀膜是改变物体表面物理化学性质的表面处理技术，也属于气相沉积技术。如今，应用领域对真空镀膜机的发展提出更高要求，体现在以下方面：（1）伴随工业的快速发展，更多领域要求镀膜机大型化、智能化、白动化。（2）不同客户要求不同的工作环境，干扰源也多变和复杂，真空镀膜机要适应不同的甚至是恶劣的环境(如高温、潮湿、多尘、强腐蚀、强电磁、高频干扰等。（3）客户要求更高的膜层质量，镀膜的种类也越来越多，设备必然要有相应水平的镀膜灵活性和稳定性。（4）真空系统越来越复杂，要控制的真空泵和阀门很多，而且它们之间存在着严格的连锁关系，操作错误会引起严重后果。以上这些要求和功能主要由先进的真空镀膜机的电气控制系统来实现。本文中设计的真空镀膜机采用了OMRON可编程控制器（Programmable Logic Controller，PLC）为核心的电控系统，抗干扰强，布线简单，更改或增加功能容易，文修和检修都很方便，摆脱了原控制系统采用很多的继电器—接触器来满足功能的增加造成的臃肿繁杂、操作麻烦的缺点，达到了镀膜工艺更高要求，满足了不同用户的需求，是现代真空镀膜机的发展趋势。这也是本文的研究目的之所在。
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